高真空氣氛爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制,控溫精度高；內(nèi)膽采用耐溫、耐壓合金材料；爐門配有循環(huán)水冷，爐門與爐膽的可靠密封；可選配真空裝置，可以通氣氛抽真空。高真空氣氛爐主要用于硬質(zhì)合金、粉末冶金行業(yè)生產(chǎn)各種粒度的碳化鎢粉、碳化鈦粉、碳化釩粉等金屬粉末及復合金屬粉末。
高真空氣氛爐是在真空環(huán)境中進行加熱的設備，一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統(tǒng)、供電系統(tǒng)和控溫系統(tǒng)等組成。高真空氣氛爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。
高真空氣氛爐特點:
?。薄?300℃超高溫爐體，可兼容滿足細、中、粗顆粒料WC粉和復合料碳化加熱工藝。
?。?、高真空氣氛爐采用數(shù)顯化可編程智能控溫系統(tǒng)，全自動高精度完成測溫控溫過程，系統(tǒng)可按給定升溫曲線升溫，并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
?。场⒉捎眉兯鋮s系統(tǒng)；數(shù)字式流量監(jiān)控系統(tǒng)，采用高性能中頻接觸器對爐體進行自動轉換；的PLC水、電、氣自動控制和保護系統(tǒng)。
４、該系統(tǒng)對碳化質(zhì)量有明顯改善，與傳統(tǒng)碳化爐相比，具有反應*、粒度均勻、化合含碳量高、游離含碳量低等優(yōu)勢，而且產(chǎn)量高、勞動條件好、使用壽命長。
高真空氣氛爐是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進行燒結﹑融化﹑分析、生產(chǎn)而研制的設備。
高真空氣氛爐主要用途和適用范圍:
可應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、釬焊等工藝。
